濕式蝕刻機
半導體的蝕刻可分為乾式蝕刻與溼式蝕刻：1) 溼式 ... 光阻下面的多晶矽上圖1(b)；最後利用濕式、乾式或兩種 ... TCP9400(多晶矽乾蝕刻機)為科林研發之蝕刻機，. ,6” WAFERx2cassette /8”x1 cassette 複槽式手動傳輸WET BENCH · 8” WAFERx2cassette 複槽式自動傳輸WET BENCH · 晶片制程機台:SC1, SC2, BOE, SPM.
| 相關軟體 Etcher 資訊 | |
|---|---|
 濕式蝕刻機 相關參考資料
[佳宸科技有限公司]-專利濕式蝕刻機
佳宸蝕刻機(Wet Spray Etcher)為高精密之半導體濕蝕刻製程設備，濕蝕刻製程常用於半導體的元件製造以及光電LED產業等領域…。在半導體製程中，濕蝕刻通常是 ... http://rainbowtw.com 什麼是蝕刻(Etching)？ - 國家奈米元件實驗室
半導體的蝕刻可分為乾式蝕刻與溼式蝕刻：1) 溼式 ... 光阻下面的多晶矽上圖1(b)；最後利用濕式、乾式或兩種 ... TCP9400(多晶矽乾蝕刻機)為科林研發之蝕刻機，. http://www.ndl.org.tw 濕式蝕刻製程設備- 寶笙科技 - Boscien System
6” WAFERx2cassette /8”x1 cassette 複槽式手動傳輸WET BENCH · 8” WAFERx2cassette 複槽式自動傳輸WET BENCH · 晶片制程機台:SC1, SC2, BOE, SPM. http://www.boscien.com 蝕刻| Applied Materials
蝕刻. 蝕刻製程會移除晶圓表面的特定區域，以沉積其它材料。 「乾式」(電漿) 蝕刻是用於電路清晰度步驟，而「濕式」蝕刻(使用化學浴) 主要用於清潔晶圓。 乾式蝕刻是 ... http://www.appliedmaterials.co 濕式光阻剝除(Wet Stripping) - 廠商資訊- 台灣電子設備協會
電荷消除裝置(Charge Erase). 乾式蝕刻(Dry Etching). 濕式蝕刻(Wet Etching). 乾式光阻剝除(Dry Stripping). 濕式光阻剝除(Wet Stripping). 光罩蝕刻(Mask Etching). http://www.teeia.org.tw 漢科系統科技股份有限公司| 廠商資訊- 台灣電子設備協會
... 感應式耦合電漿蝕刻機(ICP Etch)，太陽能(Solar)-PECVD，太陽能(Solar)-PVD/LPCVD，OLED-化學氣相沉積設備，OLED-乾式蝕刻設備，OLED-濕式蝕刻設備，觸 ... http://www.teeia.org.tw 蝕刻技術(Etching) | Ansforce
以化學藥品與材料產生化學反應，將材料中不需要的部分溶解去除稱為「蝕刻(Etching)」，使用的方法有「濕式蝕刻」與「乾式蝕刻」兩種，這裡我們主要 ... https://www.ansforce.com 佳宸科技Semtek - 晶圓濕式蝕刻機
設備能力 佳宸開發的專利公自轉噴灑式濕蝕刻設備，可改善傳統濕蝕機的現存缺點，如：蝕刻均勻性、側蝕及產能等問題。 特殊噴灑方式配合混酸及恆溫系統，藉由參數 ... http://www.semtekcorp.com |