Optical Critical Dimension 原理
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Optimization of Critical Dimension (CD) Measurement Metrology. 研究生: 黃閔顯 ... 尺寸(Critical Dimension, CD)量測原理與控制方式、先進製程控制. 系統、多變量 ... P. Burggraaf, Optical Lithography to 2000 and Beyond, solid State tec... https://ir.nctu.edu.tw 基於散射量測技術的臨界尺寸及輪廓測量 - 電子工程專輯.
為了解決CD-SEM和基於影像的傳統光學CD方法所面臨的局限性，基於散射測量法(Scatterometry) 的光學參數測量法已經成為新興的CD測量方法。 https://archive.eettaiwan.com 大规模集成电路中关键尺寸测量方法与应用的重要性研究_图文_ ...
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爭優勢，各個IC 產業無不積極向更小的關鍵尺寸（Critical Dimension）發展，以往晶圓的 ... 影液中，上述為正光阻的原理；若為負光阻，其反應則恰巧相反，曝光區反而不溶於顯影 ... （DOE：Diffractive Optical Element）造成四段的光源，其可消除輪狀 ... https://ir.nctu.edu.tw |