蝕刻 particle
濕式蝕刻. ◇ 利用薄膜和特定溶液間所進行的. 化學反應，來去除未被光阻覆蓋. 的薄膜 ... charged particle collisions with neutral gas molecules are important. , 答：利用IPA(異丙醇)和水共溶原理將晶圓表面的水份去除. 測Particle時,使用何種測量儀器? 答：TencorSurfscan. 測蝕刻速率時,使用何者量測儀器?
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