濕式清洗
EOS系列產品. Spin Wet Clean. Lam Research的先進濕式晶圓清洗產品可提供極低的晶圓缺陷 ... ,濕式洗淨機台含有多個製程反應室，可一次處理多片晶圓，或在不同反應室中執行不同的製程步驟。在洗淨過程中，晶圓先後噴灑多種不同的化學液體，之後再透過旋轉晶圓的方式移 ...
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RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司
http://www.gptc.com.tw 光阻去除與晶圓清洗產品 - Lam Research
EOS系列產品. Spin Wet Clean. Lam Research的先進濕式晶圓清洗產品可提供極低的晶圓缺陷 ... https://www.lamresearch.com 半導體製程濕式清洗台| 晶圓製造、洗淨廢氣處理| 達思系統
濕式洗淨機台含有多個製程反應室，可一次處理多片晶圓，或在不同反應室中執行不同的製程步驟。在洗淨過程中，晶圓先後噴灑多種不同的化學液體，之後再透過旋轉晶圓的方式移 ... https://www.das-ee.com 國立交通大學機構典藏：濕式清洗槽有害氣體之危害控制
標題: 濕式清洗槽有害氣體之危害控制. The Hazard Control of Harmful Gas in the Wet Bench. 作者: 鄭為陽 · 傅武雄 · 機械工程學系. 關鍵字: 濕式清洗槽;Wet Bench. https://ir.nctu.edu.tw 奇裕集團- 濕式化學清洗蝕刻設備(cassette & cassette less type)
濕式化學清洗(蝕刻)設備:部件清洗, 晶圓清洗(cassette type), 芯片製程之濕蝕刻(cassette type). 2. 供酸櫃(CDU): 供應酸、鹼、有機溶液. https://www.kromax.com 工學院半導體材料與製程設備學程 - 國立交通大學
由 李國智 著作 · 2008 — 綜合以上濕式清除微粒技術，目前以APM 加上超音波震盪. （mega-sonic）的去除效率較高，而不至於破壞晶圓。 2.3 RCA 標準清洗之研究進程. RCA 清洗技術[34]由1963 年發展到 ... https://ir.nctu.edu.tw 最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)
晶圓清洗的目的，是以整個批次或單一晶圓，藉由化學品的浸泡或噴灑來去除髒污，並用超. 純水來洗濯雜質，主要是清除晶片表面所有的污染物，如微塵粒(Particle) 、有機物( ... https://www.tsri.org.tw 清洗製程
濕式清洗設備. • 可溶性污染. – 多槽式自動清洗設備. – 單槽清洗設備. 單晶圓清洗設備. – 單晶圓清洗設備. • 不溶性污染. – 超音波刷洗機. – 高壓噴灑配合機械刷洗. http://web.cjcu.edu.tw 濕式清洗台（Wet+Bench）消防安全監控系統之風險評估
由 陳楙昆 著作 · 2014 — 半導體製程中以濕式清洗台（wet bench）之有機溶劑使用量最多，製程中透過加熱至高溫氣化方可達到晶圓乾燥之需求，因而使火災爆炸成為過程中最大的風險。濕式清洗台 ... https://www.airitilibrary.com 濕式清洗設備 - 政昊科技股份有限公司
提供各式濕式製程設備、藥水系統與新型製程需求改造工程，對於顯影( develop )、蝕刻( etch )、剝膜( stripper )與清洗( cleaner )等相關製程，給予專業設備製程配置與 ... https://cheng-hau.com |