半導體清洗廠

半導體製程污染源. • 微粒. – 來源:機器、包圍的空氣、氣體、. 去離子水、化學品。 影響:降低氧化物崩潰電壓;多. – 影響:降低氧化物崩潰電壓;多. 晶矽或金屬橋接, ... , 七星甴子主營清洗機、氧化爐、 氣體質量控制...

半導體清洗廠

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清洗製程

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國產十五家主要半導體設備廠商介紹- 每日頭條

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