氫氟酸蝕刻

最後測試. 加熱製程. 微影製程. 蝕刻與. 光阻剝除. 離子佈值與. 光阻剝除. 金屬化. CMP. 介電質沉積. 晶圓 .... 硝酸將矽氧化,接著氫氟酸將二氧化矽溶. 解. Si + 2HNO. 3. , 2015年2月13日下午,基...

氫氟酸蝕刻

最後測試. 加熱製程. 微影製程. 蝕刻與. 光阻剝除. 離子佈值與. 光阻剝除. 金屬化. CMP. 介電質沉積. 晶圓 .... 硝酸將矽氧化,接著氫氟酸將二氧化矽溶. 解. Si + 2HNO. 3. , 2015年2月13日下午,基隆港東11碼頭驚傳氫氟酸(Hydrofluoric acid, HF)外 ... 氫氟酸亦是半導體、面板、太陽能電池等產業製程中,用於清洗與蝕刻 ...

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氫氟酸蝕刻 相關參考資料
半導體工業工程師氫氟酸中毒年約30人| 大紀元

由於氫氟酸也被使用在坊間一些除鏽劑、蝕刻玻璃劑上,高偉峰提醒,不論是工程師或一般民眾,曝露在有氫氟酸的環境當中,最好戴上手套、口罩, ...

http://www.epochtimes.com

Chapter 9 蝕刻

最後測試. 加熱製程. 微影製程. 蝕刻與. 光阻剝除. 離子佈值與. 光阻剝除. 金屬化. CMP. 介電質沉積. 晶圓 .... 硝酸將矽氧化,接著氫氟酸將二氧化矽溶. 解. Si + 2HNO. 3.

http://www.isu.edu.tw

蝕骨水解密:氫氟酸-科技大觀園

2015年2月13日下午,基隆港東11碼頭驚傳氫氟酸(Hydrofluoric acid, HF)外 ... 氫氟酸亦是半導體、面板、太陽能電池等產業製程中,用於清洗與蝕刻 ...

https://scitechvista.nat.gov.t

氫氟酸- 維基百科,自由的百科全書 - Wikipedia

氫氟酸是氟化氫的水溶液,具有強烈的腐蝕性,純氟化氫有時也稱作無水氫氟酸。 ... 氫氟酸也用來蝕刻玻璃,半導體工業使用它來除去矽表面的氧化物,在煉油廠中它 ...

https://zh.wikipedia.org