酸槽設備
目前各家廠商對於Single wafer type仍處於開發的階段，所面臨到的一些. 問題，例如同一個槽內，需使用到高溫與氫氟. 酸製程，則槽內所需使用的材質問題，以及生. 產量的 ...,2019年8月3日 — 其中，酸槽設備(Wet Station)，依晶圓尺寸可分為6”、8”、12”之設備，依製程應用可分為清洗、顯影、蝕刻及去光阻。單晶片旋轉清洗、蝕刻、去光阻機台( ...
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