光罩製程
光罩是微影製程的關鍵，畫錯光罩、對準圖案設計位置錯誤、圖案超出曝光區、送光罩要排隊等問題時有所聞，對於光罩設計不熟悉的使用者，本中心可代為進行光罩 ... ,Leading the way to next generation reticle technology. 半導體產業的製程技術，隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案，協助客戶去因應這新技術的挑戰。
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CTIMES- 光罩工業及其製程技術之探討:
目前各光罩廠正積極開發給0.13um晶圓製程的光罩製程，兩年後就需要0.1um晶圓製程的光罩。當解析度要達到0.4um （0.1 x 4）時，現有的雷射光罩讀寫機（laser ... http://www.hope.com.tw 【NEW】微奈米製程的第一站：光罩設計 - 微奈米科技研究中心
光罩是微影製程的關鍵，畫錯光罩、對準圖案設計位置錯誤、圖案超出曝光區、送光罩要排隊等問題時有所聞，對於光罩設計不熟悉的使用者，本中心可代為進行光罩 ... http://cmnst.ncku.edu.tw 光罩 - TCE
Leading the way to next generation reticle technology. 半導體產業的製程技術，隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案，協助客戶去因應這新技術的挑戰。 https://www.tce.com.tw 光罩製作畫圖規則
雷射曝光機是以雷射為光源去曝光光罩底片，藉以製作光罩。光罩製作過程中必須經過. 顯影、蝕刻、去光阻等製程，所以光罩圖形設計以及曝光後的製程條件都會造成 ... http://www.phys.sinica.edu.tw 光罩製程
光罩製程. 列印 · Email. 在Quartz上sputtering Cr/CrO2後在其上coating resist。 product05 3. 使用Laser lithography equipemnt，在PR layer表面形成pattern。 http://www.pklt.com.tw 晶圓的處理－ 微影成像與蝕刻
去除溶解度較高的光阻劑. 蝕刻. 移除未被光阻劑覆蓋的. 晶圓外 ... 顯影劑溶解度會隨曝光程度. 改變. • 不會被蝕刻劑或蝕刻製程侵蝕 ... 光罩，遮罩，罩遮. （ k）. （mask） ... http://web.cjcu.edu.tw |