倍縮光罩

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倍縮光罩

過去的幾年以來,敝司一直致力於---如何讓最有競爭力優勢的價格,在最短的交期內,以最佳的鉻板光罩/ 底片光罩/ 金屬蝕刻/ 玻璃鑽孔/ 玻璃切割/ 蓋板玻璃/ 及彩色 ... ,i-line 曝光機曝光驗證,比較實驗製作之衰減式相位移光罩與二元式鉻膜. 光罩的解析能力, ...... 上的誤差也會相對被縮小,這種形式的光罩被稱為倍縮. 光罩(Reticle)。

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倍縮光罩 相關參考資料
Lithography

蝕刻與光. 阻剝除. 4. 光罩/倍縮光罩. (Mask). 曝光. Exposure. 顯影. Development. 紫外光. 負光阻. 基片. 正光阻. 基片. 光阻. 微影製程(Lithography). 基片(Substrate).

http://homepage.ntu.edu.tw

1. 鉻板光罩MaskReticle-產品規格SPEC | 松竹梅微米有限公司 ...

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http://www.szm2009taiwan.com

國立交通大學機構典藏- 交通大學

i-line 曝光機曝光驗證,比較實驗製作之衰減式相位移光罩與二元式鉻膜. 光罩的解析能力, ...... 上的誤差也會相對被縮小,這種形式的光罩被稱為倍縮. 光罩(Reticle)。

https://ir.nctu.edu.tw

半導體製程技術 - 聯合大學

光罩/倍縮光罩. 曝光. 顯影後. 負光阻. 紫外線. 正光阻. 基片. 基片. 基片. 光阻. 基片. 光阻. 正負光阻的圖案化製程. Page 6. 光阻化學. ▫ 始於印刷電路技術. ▫ 1950年代 ...

http://web.nuu.edu.tw

光罩:光罩(英文:Reticle, Mask):在製作IC的過程中,利用光蝕刻 ...

倍縮光罩(Reticle):當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光罩,通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。 光罩(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。

https://www.itsfun.com.tw

光罩和倍縮光罩管理Mask and Reticle Handling - Greene ...

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光罩- 維基百科,自由的百科全書 - Wikipedia

倍縮光罩(Reticle):在投影式光刻機中,光罩作為一個光學元件位於會聚透鏡(condenser lens)與投影透鏡(projection lens)之間,它並不和晶圓有直接接觸。光罩上的 ...

https://zh.wikipedia.org

光罩與倍縮光罩的差別? | Yahoo奇摩知識+

Mask:光罩上的pattern和layout的size一模一樣...也就是1:1. reticle:光罩上pattern的size比layout大一個倍數...也就是n:1. n:一般有2倍,4倍,5倍... 舉個例子:layout ...

https://tw.answers.yahoo.com

光罩(Photomask) | Ansforce

... 以電子束刻寫在石英片上就形成「光罩(Photomask)」,是製作積體電路(IC)非常重要的 ... 光阻. 蝕刻. Etching. 去光阻液. 顯影液. 倍縮光罩. Reticle. 防塵護膜. Pellicle.

https://www.ansforce.com