rf pvd
隨著元件尺寸縮小，線寬更加脆弱且深寬比更高，使得當前的PVD (物理氣相沉積) 技術在填充較深的狹窄結構、避免電漿損害方面的難度升高。使用低功率、射頻架構 ... ,The Endura Avenir system's RF PVD technology addresses high-k/metal gate applications as well as logic contact silicidation to 22nm and beyond.
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Chapter 7 電漿的基礎原理 - 義守大學
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PVD顧名思義是以物理機制來進行薄膜湚積而不涉及化學反應的製程 ... 此外，我們亦可在晶圓台座上選擇性地裝上另一組RF偏壓，以期達到更佳的 ... https://beeway.pixnet.net RF generator - Junsun Tech: PVD and plasma ... - 真空鍍膜
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