plasma etching原理
2017年12月8日 — 高活性的自由基會和玻璃基板表面所鍍的薄膜物質進行反應。 因此Plasma被用在半導體，LCD行業中Etching的工藝中，多用在矽和矽的化合物（SiNx、 ... ,2017年11月12日 — 它包含了將材質整面均勻移除及圖案選擇性部分去除，可分為濕式刻蝕(wet etching)和乾式刻蝕(dry etching)兩種技術。 濕式刻蝕具有待刻蝕材料與光阻及下層 ...
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