ebi原理
We used electron beam (e-beam) inspection (EBI) systems to inspect nano imprint lithography (NIL) resist wafers with programmed defects. EBI with 10nm pixel ... , EBI與其他檢測方法一樣，需要對感興趣的重要缺陷(Defects of interest, DOI)具有較高的檢測靈敏度和穩定性。還可提供最低充電效應，並且僅包含 ...
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