光阻膨潤
藉由光阻的塗佈，曝光與顯影,在晶片表面形成特定之圖案. EPILEDS .... 由於負型光阻易產生膨潤(swelling)現象而使照射區圖案. 失真，解析度較差，但負型光阻的熱 ... ,兩性光阻因顯影過程中無負型阻之膨潤現象，解析度較高，在次微米積體電路中的重要性正日益提高。本研究合成了鄰、間、對位（o 、m 、p ）三種polyformyloxyst- ...
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IC製程中深次微米光阻劑之製備及微影性質研究__臺灣博碩士論文知識 ...
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藉由光阻的塗佈，曝光與顯影,在晶片表面形成特定之圖案. EPILEDS .... 由於負型光阻易產生膨潤(swelling)現象而使照射區圖案. 失真，解析度較差，但負型光阻的熱 ... http://www2.isu.edu.tw Polyformyloxystyrene光阻微影成像性質之研究
兩性光阻因顯影過程中無負型阻之膨潤現象，解析度較高，在次微米積體電路中的重要性正日益提高。本研究合成了鄰、間、對位（o 、m 、p ）三種polyformyloxyst- ... https://ir.nctu.edu.tw Polyformyloxystyrene光阻微影成像性質之研究__臺灣博碩士論文知識加 ...
兩性光阻因顯影過程中無負型阻之膨潤現象，解析度較高，在次微米積體電路中的重要性正日益提高。本研究合成了鄰、間、對位（o 、m 、p ）三種polyformyloxyst-yrene ... https://ndltd.ncl.edu.tw 國立成功大學機構典藏
Title: 環糊精衍生物架橋性分子光阻之製備及特性研究 ... 寬；避免傳統高分子光阻劑側鏈纏繞造成物理性質不均一的缺點，可以減少影像失真和膨潤 ... http://ir.lib.ncku.edu.tw 應用高分子手冊
達到光阻表面,而沒有散射的電子則直接聚焦進入光阻表面,於是產生很高對比的圖案 ... 這一類負型光阻的缺點是,顯影後光阻會有膨潤〔 8 〜^ 11118 〕現象,主要原因 ... https://books.google.com.tw 润湿液在IC先进微影制程所扮演的角色_百度文库
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枚葉式再生去光阻機共三段流程, 分別為藥液剝離段, 水洗段及乾燥段, 藥液剝離段是以高溫強鹼性藥水將玻璃基板表面的有機光阻膨潤浸泡後再經由多重高壓噴淋或 ... http://www.mirle.com.tw 達興材料- 產品介紹
Array製程為TFT-LCD之最主要技術，光阻剝離液在完成金屬或半導體薄膜線路之蝕刻 ... 分為溶劑型及水性剝離液; 快速的光阻膨潤性及光阻剝離性; 對於金屬基材無 ... http://www.daxinmat.com 高分子溶解行為之探討 - 成功大學機構典藏
路之製造中光阻劑的溶解行為，致力於高分子溶解. 行為之探討。Tu and .... 膜之速率，故高分子薄膜之膨潤現象將愈不顯著。 由於無因次溶解速率與 ... http://ir.lib.ncku.edu.tw |