去光阻液英文
本研究內容主要為探討影響去光阻液回收系統薄膜蒸發器單元效能的主要因子，依據文獻選用進料量、蒸氣壓力、轉速，作為田口方法的控制因子，並以薄膜蒸發器蒸發率作為品質特性，應用田口法直交表規劃實驗，得到蒸氣壓力與轉數為影響效能之最重要因子與其最佳操 作條件，進而作為工廠實際操作上系統參數調整之指標。 英文 ... ,TFT-LCD產業去光阻液(Stripper)使用量大，使得生產製造過程產生的廢棄物亦隨之增加。因此，如何降低化學品耗用量，已成為各製造廠關切的問題，故TFT 廠皆 ... 論文名稱(中文):, 提昇TFT-LCD 廠去光阻劑回收效益. 論文名稱(英文):, Improve the recycle rate on stripper recycle system in the liquid crystal display industry. 指導教授( ...
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本研究內容主要為探討影響去光阻液回收系統薄膜蒸發器單元效能的主要因子，依據文獻選用進料量、蒸氣壓力、轉速，作為田口方法的控制因子，並以薄膜蒸發器蒸發率作為品質特性，應用田口法直交表規劃實驗，得到蒸氣壓力與轉數為影響效能之最重要因子與其最佳操 作條件，進而作為工廠實際操作上系統參數調整之指標。 英文 ... http://etds.lib.ncku.edu.tw 提昇TFT-LCD 廠去光阻劑回收效益__國立交通大學博碩士論文全文影像 ...
TFT-LCD產業去光阻液(Stripper)使用量大，使得生產製造過程產生的廢棄物亦隨之增加。因此，如何降低化學品耗用量，已成為各製造廠關切的問題，故TFT 廠皆 ... 論文名稱(中文):, 提昇TFT-LCD 廠去光阻劑回收效益. 論文名稱(英文):, Improve the recycle rate on stripper recycle system in the liquid crys... http://etd.lib.nctu.edu.tw 光阻剝離液 - 達興材料
應用. Array製程為TFT-LCD之最主要技術，光阻剝離液在完成金屬或半導體薄膜線路之蝕刻製程後，作為剝離光阻的功用。 產品特性. 分為溶劑型及水性剝離液; 快速的光阻膨潤性及光阻剝離性; 對於金屬基材無腐蝕性; 易回收減少廢液量及降低成本. 產品分類 ... http://www.daxinmat.com 光阻去除和晶圓清洗| Photoresist Strip. Wet Clean. Plasma Bevel ...
Lam's photoresist strip and wafer cleaning products provide efficient and effective removal of photoresist, residues, and particles without impacting device features. Technologies include dry plas... https://taiwan.lamresearch.com 半導體晶圓製造之去光阻液配方開發__臺灣博碩士論文知識加值系統 ...
要完成半導體元件需要許多製程，而去光阻液(stripper)就是在微影製程裡最重要的間接材料。對一片晶圓而言，適合的stripper不僅要能把光阻去除乾淨之外，還要不攻擊光阻下層的金屬薄膜及金屬凸塊。本論文研究主要目的是針對半導體界所使用的去光阻液做開發，台灣的科技產業以半導體業為主要，但去光阻液的 ... https://ndltd.ncl.edu.tw 提升平面顯示器廠去光阻劑回收率之探討__臺灣博碩士論文知識加值 ...
去光阻劑(Stripper)又稱為剝離液，為TFT LCD廠前段製程中使用量僅次於顯影液之化學品，大多由國外進口，單價極高，而使用後之廢去光阻劑僅含少量不純物，極具回收純化價值。光電業一般所使用之去光阻劑,分別有TOK106與N300兩種, TOK106其主要成份有70%之MEA及DMSO 30%，而N300主要成份為70%之BDG及MEA 30% ... https://ndltd.ncl.edu.tw 濕膜去光阻液(Liquid Film PR Stripper) - 燠暘企業有限公司
濕膜去光阻液. 濕膜去光阻液(Liquid Film PR Stripper)提供高效率、低成本的去光阻液。應用於半導體製程、高階IC封裝、光電產業、微機電應用等製程。可對應液態光阻、乾膜光阻、正/負型光阻。具有高效率、高bath loading/bath life、低金屬腐蝕率、易於操作使用、低成本、製程廢液容易處理等特色。適用於wet bench 與spin tool 機台。 http://www.taiwan-yuyang.com.t Download
其他名稱：去光阻液. 建議用途及限制使用：溶解光阻. 製造者、輸入者或供應者名稱：三福化工股份有限公司. 製造者、輸入者或供應者地址：台南市善化區小新里340 號 ... 危害成分中英文名稱. 濃度或濃度範圍. (成分百分比). 化學文摘社登記號碼. (CAS No.) N-甲基吡咯烷酮. NMP (1-Methyl-2-Pyrrolidinone). 50%~70%. 872-50-4. http://www.sfchem.com.tw 光阻液- 半導體材料- 華立企業股份有限公司
半導體材料Wahlee Product. 半導體材料 · 光阻液及顯影液 · 光阻液 · 顯影液 · 光阻去除劑, 乾蝕刻後殘留物去除劑 · IC製程用化學品與特殊氣體 · 半導體平整研磨液, 研磨墊 · 石英，矽環及精細陶瓷組件 · 矽晶圓. / 半導體材料 / 光阻液及顯影液 / 光... https://www.wahlee.com |