乾蝕刻設備
「乾式」(電漿) 蝕刻是用於電路清晰度步驟，而「濕式」蝕刻(使用化學浴) 主要用於清潔晶圓。 乾式蝕刻是半導體製造中最常用的製程之一。 開始蝕刻前，晶圓上會塗上一層光阻 ... ,濕式蝕刻法. 乾式蝕刻法. 溼式與乾式蝕刻. 電漿. 蝕刻 ... 蝕刻. 氮化矽. 氮化矽. 二氧化矽蝕刻幕罩. 光阻圖案 ... 乾蝕刻沒有液態的蝕刻. 溶液，主要分為物理濺.
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乾式蝕刻設備||產品資訊|中古機|半導體|平面顯示器|LED|能源與環境|真空產品|生技與傳統產業|靶材與其它材料|光學鍍膜|實驗與研究開發| ... 電漿耦合乾蝕刻設備_NE系列. http://www.ulvac.com.tw 蝕刻
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