overlay residual

由 Y Sufrin 著作 · 2019 · 被引用 1 次 — A given litho layer intra-field overlay error includes several systematic sources, s...

overlay residual

由 Y Sufrin 著作 · 2019 · 被引用 1 次 — A given litho layer intra-field overlay error includes several systematic sources, such as scanner lens-to-lens residuals and mask writer ... ,2018年11月15日 — Overlay是IC製造中的關鍵參數之,其意義是當層與前層圖案(pattern)間對準的精準度(圖1)。 各層元件之間的電路連結,例如從電晶體到接觸點到導電連接,都 ...

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Enhanced wafer overlay residuals control: deep sub ...

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EUV微影和Overlay控制詳解 - 電子工程專輯

2018年11月15日 — Overlay是IC製造中的關鍵參數之,其意義是當層與前層圖案(pattern)間對準的精準度(圖1)。 各層元件之間的電路連結,例如從電晶體到接觸點到導電連接,都 ...

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Methodology for Overlay Mark Selection - YMS Magazine

由 CCK Huang 著作 · 被引用 2 次 — In addition to TMU, metrology engineers may also consider residual overlay error after removal of linear contributions such as translation, rotation and ...

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Simulation of Non-Uniform Wafer Geometry and Thin Film ...

由 S Veeraraghaven 著作 · 被引用 7 次 — Keywords: overlay, residual stress, wafer shape. 1. INTRODUCTION. Controlling overlay errors in lithographic patterning is currently and will continue to be ...

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中華大學碩士論文

關鍵字:lithographic overlay、reticle、exposure grid map、high order ... (overlay)的量測來得到殘值(residual)的大小,此殘值指的是由於透鏡組的失真而導致.

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國立交通大學機構典藏:微影製程覆蓋誤差控制

由 詹孟勳 著作 · 2011 — 並於找出最適當Mark之後,變更Run貨Recipe(程式),實際下貨驗證,比較變更前後Overlay量測之殘值Residual (X & Y方向不可線性補償之覆蓋誤差)、X Mean + 3 sigma、Y ...

https://ir.nctu.edu.tw

疊對量測不確定度評估 - AOIEA - 工業技術研究院

關鍵字:疊對量測(Overlay measurement),TIS(Tool Induce Shift),WIS(Wafer Induce. Shift),參考量測系統(Reference Measurement System-RMS).

https://aoiea.itri.org.tw