ldd halo半導体

Flow: Well-->GOX-->POLY-->LDD/Halo-->Spacer-->S/D_IM-->S/D_Anneal. 2. SIMS图: 决定半导体器件的特性,主要来自各个区域的掺杂浓度...

ldd halo半導体

Flow: Well-->GOX-->POLY-->LDD/Halo-->Spacer-->S/D_IM-->S/D_Anneal. 2. SIMS图: 决定半导体器件的特性,主要来自各个区域的掺杂浓度,前 ..., 如图1.14(b)所示,是利用LDD结构的MOS管结构图。 ... 为了降低MOS器件的亚阈值区的漏电流,需要增加一道沟道离子注入和晕环(Halo)离子注入 ...

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元件物理基礎The scale of things Crystal Structure Crystal

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