dfm半導體
可製造性設計(DFM)在半導體產業奈米設計流程方法學中已變得越來越重要。在過去的設計中，設計師只有在他們設計投片後才能確定製造的良率。 , 2002年，半导体技术开始支持0.13微米特征尺寸。对光刻胶上电路图形曝光所需的光源波长要小于可见光，因此制造商使用RET（中间掩模增强技术） ...
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