EUV DUV 差異
不但在EUV市場有一○○％市占率，根據The Information Network的資料顯示，ASML在上一代微影設備DUV市場上同樣站穩領先地位，一八年已 ..., 此外，透過粗淺地闡述不同7nm製程在參數方面的差異，也期望看看當今的 ... 中採用DUV和多重曝光，三星似乎很早就鐵了心要給7nm直接上EUV。
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 EUV DUV 差異 相關參考資料
1. 何謂EUV 微影？ | Welcome to Gigaphoton
EUV（極紫外線，Extreme Ultraviolet 略稱）微影，是使用通稱極紫外線之極短波（13.5 nm）光線的微影技術，能夠加工至既有ArF 準分子雷射光微影技術不易達到之20 ... https://www.gigaphoton.com EUV世代ASML靠併購賺到關鍵技術- 今周刊
不但在EUV市場有一○○％市占率，根據The Information Network的資料顯示，ASML在上一代微影設備DUV市場上同樣站穩領先地位，一八年已 ... https://www.businesstoday.com. 平平都是7nm 性能、製程大不同！ - 電子工程專輯
此外，透過粗淺地闡述不同7nm製程在參數方面的差異，也期望看看當今的 ... 中採用DUV和多重曝光，三星似乎很早就鐵了心要給7nm直接上EUV。 https://www.eettaiwan.com 摩爾定律越跑越遠，四大半導體商聯手追趕 - 有物報告
於是Intel 大力推動各廠商組成聯盟研發EUV，一開始還樂觀預估2007 年就能以EUV 取代深紫外光（Deep Ultraviolet, DUV，波長193nm）。 https://yowureport.com 新一代製程的關鍵：13.5奈米的「極端」紫外光| CASE報科學
半導體製程的原理是「差異蝕刻」：半導體基板上被光照射的區域會發生化學 ... UV, DUV)」跳到10奈米左右的「極端紫外光(Extreme UV, EUV)」。 https://case.ntu.edu.tw 極紫外光EUV微影是什麼？影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術 ...
在台積電法說會上，EUV是近年不斷提到的微影製程名稱，也是現今能在 ... ASML的EUV極紫外光機台專門曝光最複雜、精細的線路圖案，而DUV深 ... https://www.bnext.com.tw 極紫外光刻的發展現狀 - Digitimes
看來EUV要進入先進製程的主流了，但其實還有一票工程問題待改善，最主要的原因是雖然DUV和EUV都是雷射光，但發光的機制很不一樣。 https://www.digitimes.com.tw 詳細解讀7 奈米製程，看半導體巨頭如何拚老命為摩爾定律延壽 ...
June 25, 2018 by 雷鋒網 Tagged: 5 奈米, 7 奈米, ASML, EUV, IBM, Nanosheets, 三星, 半導體, 台積電, 摩爾定律, 晶圓, 格羅方德, 英特爾晶片, 會員專區, 材料、設備, ... https://technews.tw 跨入16奈米世代一步到位 - 科學人雜誌
16奈米之所以如此困難，主要是因為DUV的光源不再適用，傳統的製程因此得大幅改變，而目前正在研發中、可能取代DUV的兩種光源：超紫外光（EUV）與電子束（e- ... https://sa.ylib.com 黃光技術力求突破:PDP - CTIMES
依黃光技術來看，目前以DUV(Deep UV；深紫外光)為業界之技術主流，以248奈米 ... EUV(Extreme UV；極短紫外光)的波長為157奈米，由於EUV存有技術瓶頸問題， ... https://www.ctimes.com.tw |