DNQ 光阻
光刻膠（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或 ... 5 DNQ-Novolac 光刻膠; 6 深紫外（DUV）光刻膠. ,光阻劑塗佈：將對光源具有光化學作用的光阻劑材料（photoresist）塗佈於基材上， ... (Di-Azonaphtho-Quinone)或 DNQ (Di-azo-Naphtho-Quinone)混合高分子樹脂等 ...
| 相關軟體 Polarity 資訊 | |
|---|---|
 DNQ 光阻 相關參考資料
National Chiao Tung University Institutional Repository：DNQ ...
關鍵字: 光阻;微影;X光微影;photoresist;Lithographic;X-ray Lithographic;DNQ-Novolak. 公開日期: 2006. 摘要: 隨著微影技術的蓬勃發展，使半導體技術可以在相同的 ... https://ir.nctu.edu.tw 光刻膠- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
光刻膠（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或 ... 5 DNQ-Novolac 光刻膠; 6 深紫外（DUV）光刻膠. https://zh.wikipedia.org 光觸媒科技應用於微影製程技術的開發 - 元智大學電子報
光阻劑塗佈：將對光源具有光化學作用的光阻劑材料（photoresist）塗佈於基材上， ... (Di-Azonaphtho-Quinone)或 DNQ (Di-azo-Naphtho-Quinone)混合高分子樹脂等 ... http://web2.yzu.edu.tw 光阻劑
第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質. • 暫時塗 ... http://homepage.ntu.edu.tw 光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務 - 管理學院
正光阻主要組成物質有三：（1）樹脂（Novolac）、（2）感光劑（DNQ）、（3）. 溶劑（EL,MMP… ）。其中樹脂之主要功用為使光阻能形成一種足以當作蝕刻或. 離子植入時之 ... http://web.tnu.edu.tw 博碩士論文行動網
論文名稱: DNQ-Novolak光阻於X光曝光下之特性研究. 論文名稱(外文):, The effect of X-ray irradiation on the DNQ-Novolak type photoresist. 指導教授: 柯富祥. https://ndltd.ncl.edu.tw 博碩士論文行動網 - 全國博碩士論文資訊網
論文名稱: 深紫外光微影用正型含矽光阻之研究 ... 添加T4(OH)4於TDDM-DNQ/ AC-PolyT4光阻系統中，可降低曝光量，增加光敏感性，且其光敏感性隨T4(OH)4添加 ... https://ndltd.ncl.edu.tw 厚膜光阻 - Merck KGaA
厚膜光阻. 我們提供各種厚膜光阻，從傳統DNQ和化學增幅正型光阻，到光聚合負型光阻 ... https://www.merckgroup.com 國立交通大學機構典藏：DNQ-Novolak光阻於X光曝光下之特性 ...
關鍵字: 光阻;微影;X光微影;photoresist;Lithographic;X-ray Lithographic;DNQ-Novolak. 公開日期: 2006. 摘要: 隨著微影技術的蓬勃發展，使半導體技術可以在相同的 ... https://ir.nctu.edu.tw 顯影液 - 日益和股份有限公司
根據光阻的不同，需要不同的光源(Light source), 曝光能量(Exposure dose)。 以DNQ-Novalak型光阻為例，在曝光過程中，感光劑DNQ，會進行光化學反應， ... http://www.sunstech.com.tw |