電 漿 參數
由 林兆焄 著作 · 2005 — 另一個與電漿中之離子與電子之間的吸引力相關的參數，為電漿頻率. （plasma frequency），ωp (s. -1. )，它與電子移動λD 距離的速率有關：. ,等离子体（又稱电浆），是物質狀態之一，是物質的高能狀態。其物理性質與固態、液態和氣態不同。 ... 等離子體參數是一系列描述某種電漿的性質的參數。
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 電 漿 參數 相關參考資料
國立交通大學機械工程研究所碩士論文 - 國立交通大學機構典藏
由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電漿蝕刻製程參數中一般包括了射頻(Radio-frequency，RF)功率、操. 作壓力、氣體種類、流量、蝕刻溫度及腔體的設計等因素。而這些因素綜合的結. https://ir.nctu.edu.tw 第二章文獻回顧
由 林兆焄 著作 · 2005 — 另一個與電漿中之離子與電子之間的吸引力相關的參數，為電漿頻率. （plasma frequency），ωp (s. -1. )，它與電子移動λD 距離的速率有關：. https://ir.nctu.edu.tw 等离子体- 维基百科，自由的百科全书
等离子体（又稱电浆），是物質狀態之一，是物質的高能狀態。其物理性質與固態、液態和氣態不同。 ... 等離子體參數是一系列描述某種電漿的性質的參數。 https://zh.wikipedia.org 等離子體參數- 维基百科，自由的百科全书
https://zh.wikipedia.org 行政院國家科學委員會專題研究計畫期中進度報告 - 國立成功 ...
由 廖峻德 著作 · 2005 — 本子計劃主要架構一多功能微波電漿反應機台，以電漿診斷工具如靜電式探. 針以及電漿放射光譜儀進行電漿參數確認。腔体設計的主要功能在創造官能基於. 高分子吸附材表面，另 ... http://ir.lib.ncku.edu.tw 製程參數與電漿表面處理對奈米碳管成長影響之研究 - 電子學位 ...
2005年6月20日 — 中文論文名稱, 製程參數與電漿表面處理對奈米碳管成長影響之研究. 英文論文名稱, Effect of Processing Parameters and Plasma Surface Treatment on ... http://etds.lib.tku.edu.tw 電漿源原理與應用之介紹
由 李安平 著作 — 蝕刻技術中，正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速 ... 於電漿腔中感應產生一與RF 電流反向之電場(E)，此 ... 除了透過調整最佳的電漿參數來成長利於場發射應用. http://psroc.phys.ntu.edu.tw 電漿熱流分析研究 - 行政院原子能委員會
方程式，來求得電漿腔體內流場與溫度場；並探討不同電磁強度及. 腔體尺寸下對電漿熱流場的影響。利用電腦模擬結果進行參數最佳. 化，能夠使靶材面溫度分佈均勻。 https://www.aec.gov.tw 電漿製程技術 - 興大材料
Feedstock gas: pressure P, flow rate & chemical 成分. ▫ Geometry: 本例簡化後，僅剩discharge length, l. ▫ 可獲得之電漿參數. ▫ Plasma density n. http://www.mse.nchu.edu.tw |