電子束光刻
光刻膠（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是光刻 ... ,光刻（英語：photolithography）是半導體器件製造製程中的一個重要步驟，該步驟 ... 紫外線光譜感光，有些只對特定的光譜感光，也有些對X射線或者對電子束感光。光 ...
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 電子束光刻 相關參考資料
電子束微影- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
https://zh.wikipedia.org 光刻膠- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
光刻膠（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是光刻 ... https://zh.wikipedia.org 光刻- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
光刻（英語：photolithography）是半導體器件製造製程中的一個重要步驟，該步驟 ... 紫外線光譜感光，有些只對特定的光譜感光，也有些對X射線或者對電子束感光。光 ... https://zh.wikipedia.org 电子束曝光_百度百科
电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的 ... https://baike.baidu.com 电子束曝光系统_百度百科
电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。电子束曝光系统（electron beam lithography system）即用 ... https://baike.baidu.com 电子束曝光- 维基百科，自由的百科全书
电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。 光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的 ... https://zh.m.wikipedia.org 從頭了解光刻機- 每日頭條
電子束光刻技術是微型技術加工發展的關鍵技術,他在納米製造領域中起著不可替代的作用。電子束光刻主要是刻畫微小的電路圖，電路通常是以納米 ... https://kknews.cc e-beam lithography
Method 方法Ď. Feature Size ( mm) 尺寸大小Ď. UV Photolithography UV光刻Ď. 1. Laser DWW 雷射直寫Ď. 1-2. Electron Beam 電子束Ď. 0.25-0.1 (可以更小). http://ezphysics.nchu.edu.tw 电子束光刻系统（EBL）和聚焦离子束光刻系统（FIB）_Raith China
Raith作为领先的纳米加工领域的精密仪器制造商，产品覆盖了电子束光刻系统（电子束曝光机EBL），聚焦离子束光刻系统（FIB），纳米工程和逆向工程应用设备等。 http://www.raithchina.com |