蝕刻液成分
本發明的蝕刻液組成物，含有鹽酸、氯化鐵或氯化銅、及水。 本發明的蝕刻液組成物中的鹽酸的濃度為15.0~36.0重量%。藉此，透明導電膜的蝕刻速度 ... ,在微電子工業上，最常使用的銅蝕刻液為過硫酸胺(Ammonium Persulfate)溶液，因過硫酸胺溶液也會攻擊錫鉛凸塊，所以蝕刻溶液成份要作最佳化處理，以防止錫鉛凸塊被攻擊， ...
| 相關軟體 Etcher 資訊 | |
|---|---|
 蝕刻液成分 相關參考資料
PCB用的蝕刻液的問題? @ 這是我的部落格 - 隨意窩
一、鹼性蝕刻液：通常是氯化氨＋雙氧水，有非常明顯AMONIA的臭味，蝕刻銅的速率為列舉中最快的，此成份碰到水很容易沈澱，形成藍色結晶。 二、酸性蝕刻液：分成氯化銅及氯 ... https://blog.xuite.net TW201331417A - 蝕刻液組成物及蝕刻方法
本發明的蝕刻液組成物，含有鹽酸、氯化鐵或氯化銅、及水。 本發明的蝕刻液組成物中的鹽酸的濃度為15.0~36.0重量%。藉此，透明導電膜的蝕刻速度 ... https://patents.google.com UBM 蝕刻介紹 - 弘塑科技股份有限公司
在微電子工業上，最常使用的銅蝕刻液為過硫酸胺(Ammonium Persulfate)溶液，因過硫酸胺溶液也會攻擊錫鉛凸塊，所以蝕刻溶液成份要作最佳化處理，以防止錫鉛凸塊被攻擊， ... http://www.gptc.com.tw 利紳科技股份有限公司
二、成分辨識資料. 混合物：. 中英文名稱：銅蝕刻液(Copper etchant). 同義名稱：. 化學文摘社登記號碼(CAS No.)：. 危害物質成分(成分百分比) ：. 混合物：. http://www.resoundtech.com.tw 精密化學品 - 三福化工
廢液回收. 精密化學品. 顯影液. 利用鹼性顯影液將光阻(PR, Photo Resist)經曝光後形成的有機酸中和、剝落，留下未反應的光阻圖案。 TMAH (氫氧化四甲基銨). http://www.sfchem.com.tw 蝕刻液_百度百科
https://baike.baidu.hk 蝕刻液溫度低於40 - 中文百科知識
蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加，對銅的蝕刻速率相應加快。 蝕刻液分類. 目前已經使用的蝕刻液類型有六種類型：. 酸性氯化銅. 鹼 ... https://www.easyatm.com.tw 酸性蝕刻液是什麼 - 每日頭條
2019年10月29日 — 蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和鹼性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機理是：，；酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制, ... https://kknews.cc 離子層析-IC 蝕刻液中的混酸比例會影響蝕刻效果
2012年6月23日 — 1.硝酸(HNO3)。 2.氫氟酸(HF)的水溶液。 3.醋酸(CH3COOH)溶液。 另外一般濕式製程中的蝕刻及清洗則使用大量的酸鹼溶液，基本上有氫氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、 ... https://www.techmaxasia.com 鹼性蝕刻液是什麼？ - 壹讀
2019年8月23日 — 鹼性蝕刻液主要成分為氯化銅﹑氨水﹑氯化銨,補助成分為氯化鈷、氯化鈉、氯化銨或其它含硫化合物以改善特性。鹼性蝕刻液是通過以上的機理來進行作用的。鹼 ... https://read01.com |