薄膜製程原理
◇CVD藉反應氣體間的化學反應產生所需要的薄膜，因此所. 沉積的薄膜，其 ... 主氣流裡。 ◇這些未反應氣體及副產物，將一起被CVD設備裏的抽氣裝置所. 抽離。 CVD 原理 ... 缺點：接近製程氣體入口的晶片表面沉積速率，比其他地方還高. ◇沉積的 ... ,
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