硝酸氫氟酸醋酸

(Silicon Etching), 在目前製程上多使用硝酸(HNO3)、氫氟酸(HF)及醋酸(CH3COOH)三種成份之混合溶液來蝕刻矽,其製程原理包含二道反應步驟: Si + 4HNO3 ... ,氫氟酸,醋酸,硝酸的混合. ...

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硝酸氫氟酸醋酸 相關參考資料
多晶矽製絨技術的介紹 - 材料世界網

絨技術中最常見的製程,使用氫氟酸、硝. 酸與水或醋酸的混合液為蝕刻液,其化學. 反應式為:. Si+HNO3+6HF → H2SiF6+HNO2+H2+H2O. 利用硝酸與矽晶片表面 ...

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RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司

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氫氟酸,醋酸,硝酸的混合| Yahoo奇摩知識+

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MAE ETCHANTS 多晶矽蝕刻液 - 台灣波律股份有限公司

濃度範圍(成分百分比). 危害物質分類/圖示. 硝酸Nitric Acid. 15 ~ 60 %. 腐蝕性物質. 氫氟酸Hydrofluoric Acid. 3 ~ 35 %. 腐蝕性物質;毒性物質. 醋酸Acetic Acid.

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國立交通大學機構典藏- 交通大學

由於氫氟酸對二氧化矽的蝕刻速率相當高,在製程上很難控制,因此. 在實際應用上 ... 而蝕刻速率的調整可藉由改變硝酸與氫氟酸的比例,並配合醋酸添加. 與水的稀釋 ...

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蝕刻液中的混酸比例會影響蝕刻效果| 科邁斯集團TechMax ...

硝酸(HNO3)。 2.氫氟酸(HF)的水溶液。 3.醋酸(CH3COOH)溶液。 另外一般濕式製程中的蝕刻及清洗則使用大量的酸鹼溶液,基本上有氫氟酸(HF)、 ...

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離子層析-IC 蝕刻液中的混酸比例會影響蝕刻效果 - 科邁斯集團

硝酸(HNO3)。 2.氫氟酸(HF)的水溶液。 3.醋酸(CH3COOH)溶液。 另外一般濕式製程中的蝕刻及清洗則使用大量的酸鹼溶液,基本上有氫氟酸(HF)、 ...

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T.N.C. - 商品項目

ITO Etchant、AL Etchant、Mo Etchant。 整流二極體製程用MOS、EG、EL級單酸與混合酸: 70%硝酸、36%鹽酸、99.5%冰醋酸、96%硫酸、85%磷酸、49%氫氟酸。

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硝酸氢氟酸可以和冰醋酸混合吗_百度知道

硝酸氢氟酸可以和冰醋酸混合不会相互反应。 我不是搞铸造的,不知能不能这么洗。 浓硝酸4::氢氟酸1室温5~15分钟 ...

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硅+氢氟酸+硝酸+醋酸反应最佳配比是多少_百度知道

生成的络合物六氟硅酸溶于水,通过调整硝酸和氢氟酸的比例,溶液的温度可控制腐蚀速度,如在腐蚀液中加入醋酸作缓冲剂,可使硅片表面光亮。

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