無光罩曝光機
2021年12月5日 — 新興無光罩數位圖案化技術(DLT)，能彌補雷射直接曝光之間的微米解析度缺口，同時又可陣列展開成大面積曝光，並具有影像移動補償系統的優點，更能擴大產業應用 ... ,半導體設備. 無光罩曝光機. 引進第一台桌上型3μm無光罩曝光設備； CAD/JPG/PNG/BITMAP等均可直接輸為光罩圖形 • 磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成
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 無光罩曝光機 相關參考資料
無光罩數位曝光技術與應用
2021年4月5日 — 無光罩曝光技術，顧名思義即不使用光罩(Mask)來進行曝光使光阻劑(Photoresist; PR)產生圖案化之方法。其應用範圍很廣，舉凡如半導體、印刷電路板、顯示器等 ... https://www.materialsnet.com.t 無光罩數位圖案化製程技術介紹與應用
2021年12月5日 — 新興無光罩數位圖案化技術(DLT)，能彌補雷射直接曝光之間的微米解析度缺口，同時又可陣列展開成大面積曝光，並具有影像移動補償系統的優點，更能擴大產業應用 ... https://www.materialsnet.com.t 無光罩曝光機
半導體設備. 無光罩曝光機. 引進第一台桌上型3μm無光罩曝光設備； CAD/JPG/PNG/BITMAP等均可直接輸為光罩圖形 • 磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成 https://www.mlti.com.tw 半導體微影製程設備新興技術發展與產業觀察
2023年1月25日 — 在封裝領域，則有數十家設備商分別投入無光罩曝光，主要技術為奈米壓印和雷射直寫，並且也在光電元件、MEMS製程找到應用價值。 三、半導體微影製程設備的產業 ... https://www.moea.gov.tw 無光罩適應形圖案化補償技術-人機互動與服務-智慧生活
因應未來智慧場域裝置多樣及高階封裝應用需求，以多晶片線路位移自動化補償技術，有效解決傳統光罩製程無法因應晶片位置偏移進行修正，而造成的失聯問題。 無光罩適應形圖案化 ... https://www.itri.org.tw 雷射直寫無光罩曝光機- 產品介紹
雷射直寫無光罩曝光機BEAM可以設計任何您想要的奈米圖案化，而無需昂貴的實體光罩。這款產品能在實現優越的曝光性能的同時，保證低成本以及更便捷的用戶體驗。 光束引擎將雷 ... https://www.arno-eo.com EV GROUP 透過LITHOSCALE 無光罩曝光機實現量產化目標
2020年9月22日 — 其無光罩技術消除了與光罩相關的耗材，而可調變固態雷射曝光源旨在實現高冗餘度. 和壽命長的穩定性，使其幾乎無需維護，也無需重新校準。強大的數字運算功能 ... https://www.evgroup.com 高精度無光罩式UV曝光機- Future Tech Pavilion, FUTEX
應用端可以分成兩大類，一是平面PCB、IC封裝，另外也可以應用在3D或是灰階，因此在光電、背光模組、顯示器產業皆可受惠。 李永春教授指出，無光罩式UV曝光機的應用範疇廣泛， ... https://www.futuretech.org.tw 顯微鏡(OLYMPUS)+LED曝光模組UTAIIIA型,無光罩曝光機,桌上 ...
半導體試驗形狀曝光(如二維材料，無光罩研發，曝光單位針對無光罩研發需求) 特色:1.曝光光源為LED，曝光時間以秒為單位進行設定。 2.不須大型曝光機，也可達成曝光需求。 https://ryokosha.com.tw 印刷電路板無光罩數位成像資料處理技術
PCB曝光製程捨棄底片曝光而走向直接成. 像為必然的趨勢，唯現今無光罩曝光機的資料. 處理流程均使用影像檔資料為基礎格式，在進. 入高精度領域時，解析度提高10倍則影像將膨. https://ictjournal.itri.org.tw |