沉積法
微製程大都使用CVD技術來沉積不同形式的材料，包括單晶、多晶、非晶及磊晶材料。 ... 電漿增強化學氣相沉積法（Plasma-Enhanced CVD，PECVD）：利用電漿增加 ... , 化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition；CVD)是半導體工業中應用最廣泛、用來沉積多種物料的技術，包括大部分絕緣物料、大多數金屬物料 ...
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 沉積法 相關參考資料
化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition)
◇CVD：Chemical Vapor Deposition. ◇在反應器內，利用化學反應將反應物(通常是氣體)生成固. 態的生成物，並在晶片表面沉積薄膜. ◇CVD藉反應氣體間的化學 ... http://waoffice.ee.kuas.edu.tw 化學氣相沉積- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
微製程大都使用CVD技術來沉積不同形式的材料，包括單晶、多晶、非晶及磊晶材料。 ... 電漿增強化學氣相沉積法（Plasma-Enhanced CVD，PECVD）：利用電漿增加 ... https://zh.wikipedia.org 化學氣相沉積法 - Digitimes
化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition；CVD)是半導體工業中應用最廣泛、用來沉積多種物料的技術，包括大部分絕緣物料、大多數金屬物料 ... http://www.digitimes.com.tw 化學氣相沉積（CVD）技術梳理- 每日頭條
化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition）中的Vapor Deposition意為氣相沉積，其意是指利用氣相中發生的物理、化學過程，在固體表面形成沉積 ... https://kknews.cc 國立交通大學機構典藏：化學氣相沉積法製備銅膜
銅有低的電阻係數和優異的電子遷移抗拒性，是未來積體電路連線最被看好的材料。我們自行組裝一套化學氣相沉積系統，使用Cu(hfac) TMVS當做原料沉積銅膜， ... https://ir.nctu.edu.tw 有机金属化学气相沉积法- 维基百科，自由的百科全书
有機金屬化學气相沉積法(MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition)，是在基板上成長半導體薄膜的一種方法。 其他類似的名稱如：MOVPE ... https://zh.wikipedia.org 物理氣相沉積(PVD)介紹
機制來進行薄膜沉積製程技術，所謂物理機制就是物質. 的相變化，如蒸鍍(Evaporation)、濺鍍(Sputtering)。而. 這種過程無涉及化學反應，因此所沉積的材料純度佳且. http://www.ndl.narl.org.tw 石墨烯在化學氣相沉積法(CVD)製備上的挑戰與突破-台灣物理 ...
以化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition, CVD) 合成的石墨烯，雖品質較高，但卻仍具有不少結構缺陷，以致於其物理或化學特性上仍與天然石墨烯有很大的 ... https://pb.ps-taiwan.org 藉由化學浴沉積法於表面改質矽基板上進行高度方向性氧化鋅 ...
以化學浴沉積製程所成長的氧化鋅薄膜品質與基板表面特性有很大的連結性。氧化. 鋅為一個多功能性材料，常被應用於光學、光電、壓電元件等用途，而氧化鋅化學. http://www.ndl.org.tw 金屬有機化學氣相沉積
金屬有機化學氣相沉積(Metal Organic Chemical. Vapor Phase Deposition，簡稱MOCVD)是一種複雜的晶. 體成長方式，它已經普遍運用在發光二極體(LED)、雷射. http://www.ndl.org.tw |