氫氟酸蝕刻玻璃

氢氟酸腐蚀玻璃,即与玻璃反应,生成氟硅酸,有钾、钠离子存在(玻璃一般本身含有钾钠或用碱液清洗)会生成氟硅酸钾或氟硅酸钠(K2SiF6、Na2SiF6),沉淀结晶。氟硅酸钾沉淀,在沸水中会水解出氢氟酸;与酸反应,散发出刺激性和腐蚀性的氟化氢...

氫氟酸蝕刻玻璃

氢氟酸腐蚀玻璃,即与玻璃反应,生成氟硅酸,有钾、钠离子存在(玻璃一般本身含有钾钠或用碱液清洗)会生成氟硅酸钾或氟硅酸钠(K2SiF6、Na2SiF6),沉淀结晶。氟硅酸钾沉淀,在沸水中会水解出氢氟酸;与酸反应,散发出刺激性和腐蚀性的氟化氢和四氟化硅气体。 氟硅酸钾废弃处置方法: 慢慢加入水中,然后先 ..., 概述:本文摘选和汇总相关氢氟酸(HF)腐蚀玻璃的实验分析结果,以K9 (硼硅酸盐玻璃borosilicate glass)玻璃基板被HF腐蚀实验为例,探讨HF腐蚀玻璃的原理、玻璃表面质量和蚀刻速率的情况。虽和实际面板基板蚀刻.

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氫氟酸蝕刻玻璃 相關參考資料
化學實驗室實驗:玻璃蝕刻與美感的結合(Glass Etching with Beauty)〔II ...

反應後的玻璃蝕刻膏,先以少量的水洗去並收集在小塑膠瓶中,然後集中於標示「玻璃蝕刻廢液」的大塑膠桶中。 觀察紀錄. 1. 寫出本實驗各變化過程的現象。 2. 說明各變化現象的化學原理。 3. 以照片呈現你的實驗結果。 問題. 1. 氫氟酸與玻璃的二氧化矽反應生成四氟化矽,再與氫氟酸繼續反應生成氟矽酸(H2SiF6)。

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氢氟酸能蚀刻玻璃,但氢氟酸和玻璃产生化学反应后,会产生一种结晶体,这 ...

氢氟酸腐蚀玻璃,即与玻璃反应,生成氟硅酸,有钾、钠离子存在(玻璃一般本身含有钾钠或用碱液清洗)会生成氟硅酸钾或氟硅酸钠(K2SiF6、Na2SiF6),沉淀结晶。氟硅酸钾沉淀,在沸水中会水解出氢氟酸;与酸反应,散发出刺激性和腐蚀性的氟化氢和四氟化硅气体。 氟硅酸钾废弃处置方法: 慢慢加入水中,然后先 ...

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氢氟酸蚀刻玻璃化学原理和腐蚀玻璃速率和表面分析_搜狐科技_搜狐网

概述:本文摘选和汇总相关氢氟酸(HF)腐蚀玻璃的实验分析结果,以K9 (硼硅酸盐玻璃borosilicate glass)玻璃基板被HF腐蚀实验为例,探讨HF腐蚀玻璃的原理、玻璃表面质量和蚀刻速率的情况。虽和实际面板基板蚀刻.

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氫氟酸- 維基百科,自由的百科全書 - 维基百科 - Wikipedia

由於氫氟酸溶解氧化物的能力,它在鋁和鈾的提純中起著重要作用。氫氟酸也用來蝕刻玻璃,半導體工業使用它來除去矽表面的氧化物,在煉油廠中它可以用作異丁烷和丁烷的烷基化反應的催化劑,除去不鏽鋼表面的含氧雜質的「浸酸」過程中也會用到氫氟酸。 氫氟酸也用於多種含氟有機物的合成,比如特氟隆(聚四氟乙烯),還有氟利昂 ...

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氫氟酸與玻璃 - Echo of a distant tide - 痞客邦

在高中時學到,一般酸類的液體都是用玻璃材質的瓶子儲存,即便是硫酸、硝酸等, 不過身為弱酸的「氫氟酸」HF,俗稱「化骨水」,卻不能比照辦理,原因是為何呢? 答案是: 氫氟 ... 氫氟酸與玻璃---為何弱酸的氫氟酸能腐蝕玻璃? 機制大公開! .... 因此如何更善加地運用矽相關的化學來達到蝕刻、研磨等等目的,是很重要的課題。 參考文獻:.

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氫氟酸蝕刻玻璃后玻璃渣(Slagging)為什麼有粘性? - 愛經驗

摘要:對氫氟酸腐蝕玻璃實驗現象進行了研究,發現了新的實驗現象,並探討了反應機理與反應表示式。 一般認為氫氟酸中加入玻璃后溶液澄清並有氣體產生,產生這種現象的原因被認為是氫氟酸與二氧化硅或硅酸鹽反應生成氣態物質四氟化硅,有關反應的化學方程式為: SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O(1).

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氫氟酸蝕刻玻璃後玻璃渣(Slagging)為什麼有粘性? - 每日頭條

摘要:對氫氟酸腐蝕玻璃實驗現象進行了研究,發現了新的實驗現象,並探討了反應機理與反應表示式。 一般認為氫氟酸中加入玻璃後溶液澄清並有氣體產生,產生這種現象的原因被認為是氫氟酸與二氧化矽或矽酸鹽反應生成氣態物質四氟化矽,有關反應的化學方程式為: SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O(1).

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氫氟酸(HF)蝕刻玻璃化學原理,以及腐蝕玻璃速率和表面狀況分析- 壹讀

概述:本文摘選和匯總相關氫氟酸(HF)腐蝕玻璃的實驗分析結果,以K9 (硼矽酸鹽玻璃borosilicate glass)玻璃基板被HF腐蝕實驗為例,探討HF腐蝕玻璃的原理、玻璃表面質量和蝕刻速率的情況。雖和實際面板基板蝕刻減薄工藝直接相關,但從共同的化學作用.

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腐蝕玻璃 - 新竹市玻璃工藝博物館典藏作品知識網

腐蝕玻璃. 利用化學蝕刻法,亦稱為酸蝕法、腐蝕法,使玻璃表面呈現圖案或浮雕造形的玻璃工藝技術。腐蝕玻璃的方法又分成蝕刻後的部分呈透明狀的「清蝕法」,以及蝕刻後的部分變成不透明的「毛蝕法」兩種。前者使用蝕刻液是氫氟酸(HF),與水的比例一般為1:4即足夠,水愈少則腐蝕速度愈快,重要的是凡是進行任何酸的稀釋,一定 ...

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蝕刻劑-大勤化成總公司聯絡資訊

產品, 說明. DG-200NHF(取代原有SiE-200), 本蝕刻液為弱酸性系統中的玻璃蝕刻液,不含氫氟酸,操作與加熱使用過程完全不會產生HF煙霧,不具像氫氟酸一樣的劇毒特性,且不會攻擊與分解乾、溼光阻,於室溫下蝕刻玻璃速率約與15%HF相同,高溫操作下蝕刻速率遠大於HF系統,高溫操作非常適合用來快速蝕刻玻璃,對石英玻璃或 ...

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