氧化亞銅半導體

本发明是通过控制反应物中水溶液的pH值来得到所需要的不同导电类型(p或n型)的半导体氧化亚铜薄膜。方法是先配制一定浓度的二价铜离子盐溶液,通过稀酸和 ... ,半導體又依其主要載子的不同,分為p 型與n 型兩種,p 型半導體由電...

氧化亞銅半導體

本发明是通过控制反应物中水溶液的pH值来得到所需要的不同导电类型(p或n型)的半导体氧化亚铜薄膜。方法是先配制一定浓度的二价铜离子盐溶液,通过稀酸和 ... ,半導體又依其主要載子的不同,分為p 型與n 型兩種,p 型半導體由電洞做為. 主要載子,如CuO、 NiO、Cu2O 等等,而n 型半導體則由電子做為主要載子,如. TiO2 ...

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https://www.google.com

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本发明是通过控制反应物中水溶液的pH值来得到所需要的不同导电类型(p或n型)的半导体氧化亚铜薄膜。方法是先配制一定浓度的二价铜离子盐溶液,通过稀酸和 ...

https://patents.google.com

國立交通大學機構典藏

半導體又依其主要載子的不同,分為p 型與n 型兩種,p 型半導體由電洞做為. 主要載子,如CuO、 NiO、Cu2O 等等,而n 型半導體則由電子做為主要載子,如. TiO2 ...

https://ir.nctu.edu.tw

國立中山大學物理所碩士論文以磁控濺鍍法成長氧化亞銅磊晶 ...

氧化亞銅在室溫下是一種半導體材料能隙2.17eV,在太陽能電池和量子元件 ... 研究發現在這兩種基板上氧化亞銅都可以成長出(110)-面取向的Cu2O 磊晶薄膜,.

https://etd.lis.nsysu.edu.tw

Device applications and characterizations of copper (II)(I) oxide

本研究中,我們以磁控式射頻濺鍍機(RF Sputter)來製作氧化銅及氧化亞銅 ... 入射到半導體的光子能量如果大於半導體本身的能隙值(band gap)[3],則會將原先在價 ...

https://etd.lis.nsysu.edu.tw

以化學浴沉積法製備CuO與Cu₂O及其特性分析

氧化銅(CuO)與氧化亞銅(Cu₂O)為p型的直接能隙半導體材料,其能隙分別為1.3eV及2.1eV,並能和n型半導體材料(如:二氧化鈦、氧化鋅等)結合形成異質接面 ...

http://psroc2016.conf.tw

氧化亞銅- 維基百科,自由的百科全書 - Wikipedia

分類:. 氧化物 · 一價銅化合物 · 半導體材料.

https://zh.wikipedia.org

Fabrication of Cu2O thin films by hot oxidation process for low ...

銅氧化物有二種,分別為氧化銅(Cupric Oxide; CuO)與氧化亞銅(Cuprous;Cu2O)。 其中氧化銅是一個具1.2~1.9 eV 能隙的反鐵磁半導體,為一鐵灰色及有著較複雜.

http://etd.lib.nsysu.edu.tw

博碩士論文行動網 - 全國博碩士論文資訊網

論文摘要氧化亞銅為一直接能隙(2.0eV)的半導體材料,具有在可見光區內高吸收係數、低製造成本、無毒性且在地球上含量豐富之優點。其光電特性使其可應用於 ...

https://ndltd.ncl.edu.tw