原子層沉積半導體
原子層沉積(Atomic Layer Deposition；ALD)是一種可以將物質以單原子膜 ... 在半導體製程上，ALD技術乃利用製程氣體與材料表面進行化學吸附 ...,前驅產物和材料表面發生連續的，自限性的反應。薄膜通過分別和不同的前驅產物進行反應緩慢沉積。原子層沉積是關鍵的半導體設備裝配方法，也可以成為一些奈米 ...
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 原子層沉積半導體 相關參考資料
北美智權報第105期：原子層蝕刻技術從實驗室走入晶圓廠
原子層製程技術是最有機會達到這一精度等級的技術。原子層沉積（atomic layer deposition, ALD）在半導體產業中已經在生產線上存在了十多年。 http://www.naipo.com 原子層沉積 - Digitimes
原子層沉積(Atomic Layer Deposition；ALD)是一種可以將物質以單原子膜 ... 在半導體製程上，ALD技術乃利用製程氣體與材料表面進行化學吸附 ... http://www.digitimes.com.tw 原子層沉積- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
前驅產物和材料表面發生連續的，自限性的反應。薄膜通過分別和不同的前驅產物進行反應緩慢沉積。原子層沉積是關鍵的半導體設備裝配方法，也可以成為一些奈米 ... https://zh.wikipedia.org 原子層沉積技術之發展與應用 - 儀科中心
電晶體，進一步奠定ALD 製程技術在半導體產業. 上的重要 ... 原子層沉積技術(atomic layer deposition, ALD) 是當今半導體製程中非常受到重視與仰賴之奈米超薄膜. https://www.tiri.narl.org.tw 原子層沉積技術發展及其機能膜應用：材料世界網
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