半導體 晶圓清洗機
酸性與鹹性氣體(這裡指的包括氟化氫HF與氨NF3)可透過鹹性與酸性水洗廢液(參見反應式2與3)以化學吸收的方式減量。對於遵循亨利定律的溶劑，流經水洗器的最低排氣濃度受限於 ...,單晶圓清洗機,Single Wafer Cleaner,凱爾迪科技股份有限公司專研半導體溼製程設備，推出清洗機、蝕刻機、去光阻機及超音波上光阻機等多款設備，並提供客製化服務, ...
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酸性與鹹性氣體(這裡指的包括氟化氫HF與氨NF3)可透過鹹性與酸性水洗廢液(參見反應式2與3)以化學吸收的方式減量。對於遵循亨利定律的溶劑，流經水洗器的最低排氣濃度受限於 ... https://www.das-ee.com 單晶圓清洗機-KED凱爾迪科技股份有限公司 - 半導體製程
單晶圓清洗機,Single Wafer Cleaner,凱爾迪科技股份有限公司專研半導體溼製程設備，推出清洗機、蝕刻機、去光阻機及超音波上光阻機等多款設備，並提供客製化服務, ... https://www.kedsemi.com 晶圓清洗機(CL系列) – 東洋技術股份有限公司
晶圓清洗機. (CL系列). 特性. 內建真空產生器與自動排水裝置。 使用二流體噴嘴加強洗淨效果。 可選用純氮氣式的清洗吹乾流程。 程式控制器可加中/英文顯示板。 https://www.toyo-adtec.com.tw 晶圓清洗機- 凱爾迪科技股份有限公司 - 半導體製程
凱爾迪科技股份有限公司提供晶圓清洗機產品服務，為專業的晶圓清洗機製造商, 晶圓清洗機供應商及晶圓清洗機出口商. https://www.kedsemi.com 晶圓清洗機仕宇科技有限公司專業半導體設備及零件專業製造
- 本機適用於8”或12”附鐵框的晶圓切割後的清洗吹乾裝置，亦可應用於玻璃及電子基板的清洗。 - CL-512是一以高效率和多功能設計的清洗機，可以很容易地清除被洗物表面及切割 ... https://www.cepheus.com.tw 晶圓盒清洗機- 億尚
晶圓盒清洗機. 1、用途：8 inch ( POD、CASSETTE、RETICLE POD ) CLEANER 。 2、洗淨方式：清洗物置入外籃，投入浸泡全自動洗滌。 流程：1、投入段2、洗淨段3、取出段 ... https://www.esunsys.com.tw 晶圓背面清洗機 - 佳宸科技Semtek
設備說明 此設備應用於研磨後之晶圓背面清洗，主要為去除晶背Si 粉塵及SiO2。 主要產品應用為： 1. 晶圓背面需鍍金屬膜，須完全去除晶圓背面Si 粉塵及SiO2 ，須採用 ... http://www.semtekcorp.com 清洗製程
半導體製程污染源 ... 阻，清洗晶圓，達到酸鹼中和，. 以進行後續製程。 清洗劑：. • 清洗劑：. – APM（SC-1 或HA）：. • 成分：NH. http://web.cjcu.edu.tw |