半導體廠氫氟廢水cacl2加藥模式建立及減量之應用
目前半導體及光電廠廣泛使用氫氟酸(HF)作. 為濕式蝕刻之化學藥劑，其所排放HF 廢水除了濃. 度較高可委外回收再利用外，其他必須排放至廢水. 廠透過HF 處理 ... ,圖5.10 半導體廠廢磷酸產生位置圖. ... 圖5.12 CaCl2-NaF 系統及含氟廢水- CaCl2 系統中氟化鈣之介穩區........ 51. 圖5.13 排放水中 ... 術，至1987 年成立台積電公司首度建立國內IC 專業代工策略模式， ... 蝕刻製程中會產生之廢棄物為蝕刻廢液，其成份常為氫氟酸、 ... 過量之加藥及過量之污泥量均造成成本之增加，因此就工廠而.
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半導體廠氫氟廢水CaCl2 加藥模式建立及減量之應用賴明孝呂仁明連上舜1 台積電三廠廠務水處理課2 台積電三廠廠務水處理課3 台積電三廠廠務部摘要前言目前 ... http://docsplayer.com 廢水
半導體廠氫氟廢水 ... 加藥模式建立及減量之應用 ... [(A)- (B)]濃度差求出CaCl2 ... 加藥量(kg/D). HF廢水vs. CaCl. 2. 反應圖(F-濃度400mg/l x 500 CMD & pH=7). http://www.sinotech.org.tw 廢水處理系統操作問題排除 - 經濟部工業局
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