半導體平坦化cmp技術

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半導體平坦化cmp技術

化學機械平坦化(英語:Chemical-Mechanical Planarization, CMP),又稱化學機械研磨(Chemical-Mechanical Polishing),是半導體器件製造工藝中的一種技術, ... ,半導體平坦化CMP技術(修訂版). 王建榮、林必窕、林慶福. 全華圖書股份有限公司. 9572129147. 本書介紹目前半導體最受矚目的化學機械研磨(CMP)平坦技術。

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半導體平坦化CMP技術. 半導體平坦化CMP技術. 作者:林必窕, 出版社:全華圖書公司, 出版日期:2000-06-01. 商品條碼:9789572129142, ISBN:9572129147

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化學機械平坦化- 維基百科,自由的百科全書 - Wikipedia

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半導體平坦化CMP技術(修訂版)- TAAZE 讀冊生活

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半導體平坦化CMP技術(修訂版)-iRead灰熊愛讀書

書名:半導體平坦化CMP技術(修訂版),作者:王建榮、林必窕、林慶福,出版社:全華(本版),ISBN:9572129147.

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台灣在半導體化學機械平坦化(CMP)技術的發展優勢:材料世界網

半導體積體電路(IC)的生產必須使用化學機械平坦化(Chemical Mechanical Plconalization;CMP),而CMP則需使用鑽石碟才能維持拋光的速率及 ...

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台灣平坦化應用技術協會Chemical Mechanical Planarization ...

... 端與供應商,學術研究單位良好的溝通平台,協助台灣平坦化技術應用的發展。 ... 粒加工技術課程○ 06/12-先進半導體製程導論課程-進階○ 06/26-CMP 拋光墊與 ...

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天瓏網路書店-半導體平坦化CMP技術

書名:半導體平坦化CMP技術,ISBN:9572129147,作者:王建榮、林必窈、林慶福,出版社:全華,出版日期:2000-05-31.

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金石堂網路書店-半導體平坦化CMP技術(修訂版)

書名:半導體平坦化CMP技術(修訂版),語言:,ISBN:9789572129142,出版社:全華,作者:王建榮.林,出版日期:2003/9/4 上午12:00:00,類別:自然科普.

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