ekc溶液

在现有技术中,通常采用EKC来清除晶圆表面的聚合物和残留的光刻胶,而 ... 所述清洗液可是业内熟知的EKC溶液,所谓EKC溶液是指杜邦公司开发的一款专门用于 ... ,本发明提供了一种半导体晶圆的清洗方法,至少包含如下步骤:提供...

ekc溶液

在现有技术中,通常采用EKC来清除晶圆表面的聚合物和残留的光刻胶,而 ... 所述清洗液可是业内熟知的EKC溶液,所谓EKC溶液是指杜邦公司开发的一款专门用于 ... ,本发明提供了一种半导体晶圆的清洗方法,至少包含如下步骤:提供一晶圆,所述晶圆上具有刻蚀残余物;采用EKC溶液清洗所述晶圆,去除所述晶圆上的刻蚀残余物; ...

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[0013] 本发明的有益效果在于,本发明在晶圆清洗过程中通过气体喷洗来代替传统的液态IPA清洗,既起到了对晶圆降温和去除表面大量残余EKC溶液的作用,同时 ...

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CN102034679B - 一种清洗晶圆的方法- Google Patents

在现有技术中,通常采用EKC来清除晶圆表面的聚合物和残留的光刻胶,而 ... 所述清洗液可是业内熟知的EKC溶液,所谓EKC溶液是指杜邦公司开发的一款专门用于 ...

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CN102039282A - 半导体晶圆的清洗方法- Google Patents

本发明提供了一种半导体晶圆的清洗方法,至少包含如下步骤:提供一晶圆,所述晶圆上具有刻蚀残余物;采用EKC溶液清洗所述晶圆,去除所述晶圆上的刻蚀残余物; ...

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CN105551942A - 半导体晶圆蚀刻后的深孔清洗方法- Google Patents

本发明提供了一种半导体晶圆蚀刻后的深孔清洗方法,其包括:采用EKC溶液对刻蚀后的半导体晶圆进行第一次清洗,其中,EKC溶液为NMP溶剂和带有碱性的胺的 ...

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半导体晶圆的清洗方法 - X技术

通常使用EKC溶液去除晶圆表面的化合物,然后再利用异丙醇(IPA)去除残留在晶圆表面的EKC溶液。在这一过程中,EKC溶液与IPA的含水量都十分重要,这是因为, ...

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國立交通大學機構典藏- 交通大學

圖4.11 EKC 分2 次洗淨(EKC 13 分鐘)*2 SEM圖。........................... 43 ..... 表面的有效接觸面積比濕蝕刻溶液分子還大,因此蝕刻效率較佳。電漿. 離子的濃度和能量是 ...

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手沾到蝕刻液| 當代論壇

各位好小弟前幾天在家自己洗電路板洗一洗發現手套破了滿手都是氯化鐵後來緊急送醫到某毒物科頗有名的大醫院沒想到進了急診室裡頭沒一個人 ...

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最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法

Characteristics),並達到元件的品質及可靠度。 下頁表列即晶圓濕式清潔法所使用之典型化學藥品與其所相對應所去除之污染物。 污染物. 名稱. 化學溶液的混合. 種類.

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清洗製程

時機:幾乎所有製程之前或後,. 份量約佔所有製程步驟的30%. • 對資源的衝擊:. – 完成一片8 吋晶圓平均耗費2000. 加侖(9000 公升,9 m3)純水. 加侖(9000 公升,9 ...

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