台積電 半導體 製程

台積公司領先全球於2004年12月日本半導體展(SEMICON Japan)中,發表已順利使用浸潤式曝光(Immersion Lithography)機台產出90奈米晶片、並通過功能驗證的研究成果。 ,台積公司領先全球半導體業界,成功開發0...

台積電 半導體 製程

台積公司領先全球於2004年12月日本半導體展(SEMICON Japan)中,發表已順利使用浸潤式曝光(Immersion Lithography)機台產出90奈米晶片、並通過功能驗證的研究成果。 ,台積公司領先全球半導體業界,成功開發0.13微米系統單晶片(System-on-a-Chip,SoC)銅/低介電係數(Cu/Low-K)製程技術,其中重要的關鍵在於台積公司堅持技術自主 ...

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台積電 半導體 製程 相關參考資料
0.18微米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

相較於前一代的低耗電製程,台積公司的16奈米超低耗電製程能夠進一步降低操作電壓 ... 台積公司於2014年領先全球半導體製造業成功以雙重曝刻(Double Patterning)量產 ...

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90奈米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司 - TSMC

台積公司領先全球於2004年12月日本半導體展(SEMICON Japan)中,發表已順利使用浸潤式曝光(Immersion Lithography)機台產出90奈米晶片、並通過功能驗證的研究成果。

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0.13微米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

台積公司領先全球半導體業界,成功開發0.13微米系統單晶片(System-on-a-Chip,SoC)銅/低介電係數(Cu/Low-K)製程技術,其中重要的關鍵在於台積公司堅持技術自主 ...

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28奈米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

此外,台積公司領先全球的28奈米製程技術以採用高介電層/金屬閘極(High-k Metal ... 台積公司於2014年領先全球半導體製造業成功以雙重曝刻(Double Patterning)量產 ...

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10奈米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

由於採取更積極的製程微縮,台積公司10奈米FinFET製程技術較16奈米FinFET製程技術 ... 台積公司於2014年領先全球半導體製造業成功以雙重曝刻(Double Patterning)量產 ...

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3微米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

台積公司成立之初,自台灣工研院移轉3.5微米及2.0微米製程技術, ... 台積公司堅持「自主技術」策略及不斷持續研發投資,使得台積公司成為世界半導體技術的領導廠商, ...

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專業積體電路製造服務

台積公司的眾多客戶遍布全球,為客戶生產的晶片廣泛地涵蓋電腦產品、通訊產品、消費性、工業用及標準類半導體等眾多電子產品應用領域,並被運用在各種終端市場, ...

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5奈米製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

N5是台積公司第二代使用極紫外光(EUV)技術的製程,協助客戶實現行動通訊及高效 ... 台積公司於2014年領先全球半導體製造業成功以雙重曝刻(Double Patterning)量產 ...

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邏輯製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

20奈米製程. 台積公司於2014年領先全球半導體製造業成功以雙重曝刻(Double Patterning)量產客戶20奈米產品, 並於該年度締造最快速產能提升.

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